Si tratta di un metodo per la deposizione di membrane di allumina su silicio nanostrutturato. Il principio di funzionamento sfrutta la rugosità del film di silicio e le interazioni elettrostatiche.
Metodo per la fabbricazione di dispositivi a stato solido mediante deposizione di membrane di silicio / DI FRANCIA, G.; Iadonisi, G; LA FERRARA, V.; Lancellotti, L.; Maddalena, Pasqualino; Ninno, Domenico; Quercia, L.; Roca, F.; Sberveglieri, G.; Vitiello, R.. - (1999).
Metodo per la fabbricazione di dispositivi a stato solido mediante deposizione di membrane di silicio
MADDALENA, PASQUALINO;NINNO, DOMENICO;
1999
Abstract
Si tratta di un metodo per la deposizione di membrane di allumina su silicio nanostrutturato. Il principio di funzionamento sfrutta la rugosità del film di silicio e le interazioni elettrostatiche.File in questo prodotto:
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