PROPERTIES OF MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS DEPOSITED AT HIGH RATE BY PECVD / P., Rava; Ambrosone, Giuseppina; Coscia, Ubaldo; M., Ambrico; D. K., Basa; L., Scaltrito; E., Tresso. - STAMPA. - (2007), pp. 2141-2144. (Intervento presentato al convegno 22th European PhotovoltaicSolar Energy conference and Exhibition tenutosi a Milano nel 3-7 September 2007).
PROPERTIES OF MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS DEPOSITED AT HIGH RATE BY PECVD
AMBROSONE, GIUSEPPINA;COSCIA, UBALDO;
2007
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