Nella vasta bibliografia su Pietro Toesca è mancato finora il sia pur minimo accenno ai suoi rapporti con l’architetto catalano Josep Puig i Cadafalch, autore prolifico di saggi e libri dedicati all’architettura romanica e alla genesi delle sue forme, intellettuale e uomo politico di primo piano nella costruzione e nella difesa di una Catalogna indipendente. Alcune lettere di Toesca a Puig i Cadafalch, custodite nell’Arxiu National de Catalunya e qui pubblicate per la prima volta, documentano l’esistenza di una relazione tra i due studiosi basata su scambi di pubblicazioni e di cortesie accademiche, oltre che su una stima che si intuisce reciproca. In termini analoghi si viene a configurare il rapporto con Adolfo Venturi, attestato anche da tre lettere, ugualmente inedite, conservate nel fondo Venturi alla Scuola Normale Superiore di Pisa.

Frammenti di una relazione epistolare tra Toesca, Venturi e Puig i Cadafalch / Lucherini, V.. - (2020), pp. 193-204.

Frammenti di una relazione epistolare tra Toesca, Venturi e Puig i Cadafalch

V. Lucherini
2020

Abstract

Nella vasta bibliografia su Pietro Toesca è mancato finora il sia pur minimo accenno ai suoi rapporti con l’architetto catalano Josep Puig i Cadafalch, autore prolifico di saggi e libri dedicati all’architettura romanica e alla genesi delle sue forme, intellettuale e uomo politico di primo piano nella costruzione e nella difesa di una Catalogna indipendente. Alcune lettere di Toesca a Puig i Cadafalch, custodite nell’Arxiu National de Catalunya e qui pubblicate per la prima volta, documentano l’esistenza di una relazione tra i due studiosi basata su scambi di pubblicazioni e di cortesie accademiche, oltre che su una stima che si intuisce reciproca. In termini analoghi si viene a configurare il rapporto con Adolfo Venturi, attestato anche da tre lettere, ugualmente inedite, conservate nel fondo Venturi alla Scuola Normale Superiore di Pisa.
2020
9788885795440
Frammenti di una relazione epistolare tra Toesca, Venturi e Puig i Cadafalch / Lucherini, V.. - (2020), pp. 193-204.
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