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DarkSide-20k is a novel liquid argon dark mat-
ter detector currently under construction at the Laboratori
Nazionali del Gran Sasso (LNGS) of the Istituto Nazionale
di Fisica Nucleare (INFN) that will push the sensitivity
for Weakly Interacting Massive Particle (WIMP) detec-
tion into the neutrino fog. The core of the apparatus is
a dual-phase Time Projection Chamber (TPC), filled with
50 tonnes of low radioactivity underground argon (UAr) act-
ing as the WIMP target. NUV-HD-cryo Silicon Photomulti-
pliers (SiPM)s designed by Fondazione Bruno Kessler (FBK)
(Trento, Italy) were selected as the photon sensors cover-
ing two 10.5 m2 Optical Planes, one at each end of the
TPC, and a total of 5 m2 photosensitive surface for the liq-
uid argon veto detectors. This paper describes the Quality
Assurance and Quality Control (QA/QC) plan and proce-
dures accompanying the production of FBK NUV-HD-cryo
SiPM wafers manufactured by LFoundry s.r.l. (Avezzano,
AQ, Italy). SiPM characteristics are measured at 77 K at
the wafer level with a custom-designed probe station. As of
March 2025, 1314 of the 1400 production wafers (94% of
the total) for DarkSide-20k were tested. The wafer yield is
93.2 ± 2.5%, which exceeds the 80% specification defined
in the original DarkSide-20k production plan.
Quality assurance and quality control of the $$26~\text {m}^2$$ SiPM production for the DarkSide-20k dark matter experiment / Acerbi, F.; Adhikari, P.; Agnes, P.; Ahmad, I.; Albergo, S.; Albuquerque, I. F.; Alexander, T.; Alton, A. K.; Amaudruz, P.; Angiolilli, M.; Aprile, E.; Atzori Corona, M.; Auty, D. J.; Ave, M.; Avetisov, I. C.; Azzolini, O.; Back, H. O.; Balmforth, Z.; Barrado Olmedo, A.; Barrillon, P.; Batignani, G.; Bhowmick, P.; Bloem, M.; Blua, S.; Bocci, V.; Bonivento, W.; Bottino, B.; Boulay, M. G.; Buchowicz, A.; Bussino, S.; Busto, J.; Cadeddu, M.; Cadoni, M.; Calabrese, R.; Camillo, V.; Caminata, A.; Canci, N.; Capra, A.; Caravati, M.; Cardenas-Montes, M.; Cargioli, N.; Carlini, M.; Castello, P.; Cavalcante, P.; Cebrian, S.; Cela Ruiz, J.; Chashin, S.; Chepurnov, A.; Cifarelli, L.; Cintas, D.; Cleveland, B.; Coadou, Y.; Cocco, V.; Colaiuda, D.; Conde Vilda, E.; Consiglio, L.; Costa, B. S.; Czubak, M.; D'Auria, S.; Da Rocha Rolo, M. D.; Darbo, G.; Davini, S.; De As Mundis, R.; De Cecco, S.; Dellacasa, G.; Derbin, A. V.; Capua, F. Di; Noto, L. Di; Stefano, P. Di; Dias, L. K.; Dionisi, C.; Dolganov, G.; Dordei, F.; Dronik, V.; Elersich, A.; Ellingwood, E.; Erjavec, T.; Fearon, N.; Fernandez Diaz, M.; Ficorella, A.; Fiorillo, G.; Franchini, P.; Franco, D.; Frandini Gatti, H.; Frolov, E.; Gabriele, F.; Gahan, D.; Galbiati, C.; Galiski, G.; Gallina, G.; Gallus, G.; Garbini, M.; Garcia Abia, P.; Gawdzik, A.; Gendotti, A.; Giovanetti, G. K.; Goicoechea Casanueva, V.; Gola, A.; Grandi, L.; Grauso, G.; Grilli Di Cortona, G.; Grobov, A.; Gromov, M.; Gulino, M.; Guo, C.; Hackett, B. R.; Hallin, A.; Hamer, A.; Haranczyk, M.; Hessel, T.; Horikawa, S.; Hu, J.; Hubaut, F.; Hucker, J.; Hugues, T.; Hungerford, E. V.; Ianni, A.; Ippoliti, G.; Ippolito, V.; Jamil, A.; Jillings, C.; Keloth, R.; Kemmerich, N.; Kemp, A.; Kester, Carlos E.; Kimura, M.; Kondo, K.; Korga, G.; Kotsiopoulou, L.; Koulosousas, S.; Kubankin, A.; Kunze, P.; Kuss, M.; Kuźniak, M.; Kuzwa, M.; La Commara, M.; Lai, M.; Le Guirriec, E.; Leason, E.; Leoni, A.; Lidey, L.; Lissia, M.; Luzzi, L.; Lychagina, O.; Macfadyen, O.; Machulin, I. N.; Manecki, S.; Manthos, I.; Marasciulli, A.; Margutti, G.; Mari, S. M.; Mariani, C.; Maricic, J.; Martinez, M.; Martoff, C. J.; Matteucci, G.; Mavrokoridis, K.; Mazza, E.; Mcdonald, A. B.; Merzi, S.; Messina, A.; Milincic, R.; Minutoli, S.; Mitra, A.; Monroe, J.; Moretti, E.; Morrocchi, M.; Mroz, T.; Muratova, V. N.; Murphy, M.; Murra, M.; Muscas, C.; Musico, P.; Nania, R.; Nessi, M.; Nieradka, G.; Nikolopoulos, K.; Nikoloudaki, E.; Nowak, J.; Olchanski, K.; Oleinik, A.; Oleynikov, V.; Organtini, P.; Ortiz De Solrzano, A.; Pallavicini, M.; Pandola, L.; Pantic, E.; Paoloni, E.; Papi, D.; Pastuszak, G.; Paternoster, G.; Pegoraro, P. A.; Pelczar, K.; Perez, R.; Pesudo, V.; Piacentini, S.; Pino, N.; Plante, G.; Pocar, A.; Poehlmann, M.; Pordes, S.; Pralavorio, P.; Preosti, E.; Price, D.; Puglia, S.; Queiroga Bazetto, M.; Ragusa, F.; Ramachers, Y.; Ramirez, A.; Ravinthiran, S.; Razeti, M.; Renshaw, A. L.; Rescigno, M.; Resconi, S.; Retiere, F.; Rignanese, L. P.; Rivetti, A.; Roberts, A.; Roberts, C.; Rogers, G.; Romero, L.; Rossi, M.; Rubbia, A.; Rudik, D.; Sabia, M.; Salomone, P.; Samoylov, O.; Sanfilippo, S.; Santone, D.; Santorelli, R.; Santos, E. Moura; Savarese, C.; Scapparone, E.; Schuckman, F. G.; Scioli, G.; Semenov, D. A.; Sheshukov, A.; Simeone, M.; Skensved, P.; Skorokhvatov, M. D.; Smirnov, O.; Smirnova, T.; Smith, B.; Sotnikov, A.; Spadoni, F.; Spangenberg, M.; Stefanizzi, R.; Steri, A.; Stornelli, V.; Stracka, S.; Sulis, S.; Sung, A.; Sunny, C.; Suvorov, Y.; Szelc, A. M.; Taborda, O.; Tartaglia, R.; Taylor, A.; Taylor, J.; Testera, G.; Thieme, K.; Thompson, A.; Torres-Lara, S.; Tricomi, A.; Unzhakov, E. V.; Van Uffelen, M.; Viant, T.; Viel, S.; Vishneva, A.; Vogelaar, R. B.; Vossebeld, J.; Vyas, B.; Wada, M.; Walczak, M.; Wang, Y.; Wang, H.; Westerdale, S.; Williams, L.; Wojaczyski, R.; Wojcik, M. M.; Wojcik, M.; Wright, T.; Xie, Y.; Yang, C.; Yin, J.; Zabihi, A.; Zakhary, P.; Zani, A.; Zhang, Y.; Zhu, T.; Zichichi, A.; Zuzel, G.; Zykova, M. P.; Null, Null. - In: EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL. C, PARTICLES AND FIELDS. - ISSN 1434-6052. - 85:5(2025). [10.1140/epjc/s10052-025-14196-9]
Quality assurance and quality control of the $$26~\text {m}^2$$ SiPM production for the DarkSide-20k dark matter experiment
Acerbi, F.;Adhikari, P.;Agnes, P.;Ahmad, I.;Albergo, S.;Albuquerque, I. F.;Alexander, T.;Alton, A. K.;Amaudruz, P.;Angiolilli, M.;Aprile, E.;Atzori Corona, M.;Auty, D. J.;Ave, M.;Avetisov, I. C.;Azzolini, O.;Back, H. O.;Balmforth, Z.;Barrado Olmedo, A.;Barrillon, P.;Batignani, G.;Bhowmick, P.;Bloem, M.;Blua, S.;Bocci, V.;Bonivento, W.;Bottino, B.;Boulay, M. G.;Buchowicz, A.;Bussino, S.;Busto, J.;Cadeddu, M.;Cadoni, M.;Calabrese, R.;Camillo, V.;Caminata, A.;Canci, N.;Capra, A.;Caravati, M.;Cardenas-Montes, M.;Cargioli, N.;Carlini, M.;Castello, P.;Cavalcante, P.;Cebrian, S.;Cela Ruiz, J.;Chashin, S.;Chepurnov, A.;Cifarelli, L.;Cintas, D.;Cleveland, B.;Coadou, Y.;Cocco, V.;Colaiuda, D.;Conde Vilda, E.;Consiglio, L.;Costa, B. S.;Czubak, M.;D'Auria, S.;Da Rocha Rolo, M. D.;Darbo, G.;Davini, S.;de As mundis, R.;De Cecco, S.;Dellacasa, G.;Derbin, A. V.;Capua, F. Di;Noto, L. Di;Stefano, P. Di;Dias, L. K.;Dionisi, C.;Dolganov, G.;Dordei, F.;Dronik, V.;Elersich, A.;Ellingwood, E.;Erjavec, T.;Fearon, N.;Fernandez Diaz, M.;Ficorella, A.;Fiorillo, G.;Franchini, P.;Franco, D.;Frandini Gatti, H.;Frolov, E.;Gabriele, F.;Gahan, D.;Galbiati, C.;Galiski, G.;Gallina, G.;Gallus, G.;Garbini, M.;Garcia Abia, P.;Gawdzik, A.;Gendotti, A.;Giovanetti, G. K.;Goicoechea Casanueva, V.;Gola, A.;Grandi, L.;Grauso, G.;Grilli di Cortona, G.;Grobov, A.;Gromov, M.;Gulino, M.;Guo, C.;Hackett, B. R.;Hallin, A.;Hamer, A.;Haranczyk, M.;Hessel, T.;Horikawa, S.;Hu, J.;Hubaut, F.;Hucker, J.;Hugues, T.;Hungerford, E. V.;Ianni, A.;Ippoliti, G.;Ippolito, V.;Jamil, A.;Jillings, C.;Keloth, R.;Kemmerich, N.;Kemp, A.;Kester, Carlos E.;Kimura, M.;Kondo, K.;Korga, G.;Kotsiopoulou, L.;Koulosousas, S.;Kubankin, A.;Kunze, P.;Kuss, M.;Kuźniak, M.;Kuzwa, M.;La Commara, M.;Lai, M.;Le Guirriec, E.;Leason, E.;Leoni, A.;Lidey, L.;Lissia, M.;Luzzi, L.;Lychagina, O.;Macfadyen, O.;Machulin, I. N.;Manecki, S.;Manthos, I.;Marasciulli, A.;Margutti, G.;Mari, S. M.;Mariani, C.;Maricic, J.;Martinez, M.;Martoff, C. J.;Matteucci, G.;Mavrokoridis, K.;Mazza, E.;McDonald, A. B.;Merzi, S.;Messina, A.;Milincic, R.;Minutoli, S.;Mitra, A.;Monroe, J.;Moretti, E.;Morrocchi, M.;Mroz, T.;Muratova, V. N.;Murphy, M.;Murra, M.;Muscas, C.;Musico, P.;Nania, R.;Nessi, M.;Nieradka, G.;Nikolopoulos, K.;Nikoloudaki, E.;Nowak, J.;Olchanski, K.;Oleinik, A.;Oleynikov, V.;Organtini, P.;Ortiz de Solrzano, A.;Pallavicini, M.;Pandola, L.;Pantic, E.;Paoloni, E.;Papi, D.;Pastuszak, G.;Paternoster, G.;Pegoraro, P. A.;Pelczar, K.;Perez, R.;Pesudo, V.;Piacentini, S.;Pino, N.;Plante, G.;Pocar, A.;Poehlmann, M.;Pordes, S.;Pralavorio, P.;Preosti, E.;Price, D.;Puglia, S.;Queiroga Bazetto, M.;Ragusa, F.;Ramachers, Y.;Ramirez, A.;Ravinthiran, S.;Razeti, M.;Renshaw, A. L.;Rescigno, M.;Resconi, S.;Retiere, F.;Rignanese, L. P.;Rivetti, A.;Roberts, A.;Roberts, C.;Rogers, G.;Romero, L.;Rossi, M.;Rubbia, A.;Rudik, D.;Sabia, M.;Salomone, P.;Samoylov, O.;Sanfilippo, S.;Santone, D.;Santorelli, R.;Santos, E. Moura;Savarese, C.;Scapparone, E.;Schuckman, F. G.;Scioli, G.;Semenov, D. A.;Sheshukov, A.;Simeone, M.;Skensved, P.;Skorokhvatov, M. D.;Smirnov, O.;Smirnova, T.;Smith, B.;Sotnikov, A.;Spadoni, F.;Spangenberg, M.;Stefanizzi, R.;Steri, A.;Stornelli, V.;Stracka, S.;Sulis, S.;Sung, A.;Sunny, C.;Suvorov, Y.;Szelc, A. M.;Taborda, O.;Tartaglia, R.;Taylor, A.;Taylor, J.;Testera, G.;Thieme, K.;Thompson, A.;Torres-Lara, S.;Tricomi, A.;Unzhakov, E. V.;Van Uffelen, M.;Viant, T.;Viel, S.;Vishneva, A.;Vogelaar, R. B.;Vossebeld, J.;Vyas, B.;Wada, M.;Walczak, M.;Wang, Y.;Wang, H.;Westerdale, S.;Williams, L.;Wojaczyski, R.;Wojcik, M. M.;Wojcik, M.;Wright, T.;Xie, Y.;Yang, C.;Yin, J.;Zabihi, A.;Zakhary, P.;Zani, A.;Zhang, Y.;Zhu, T.;Zichichi, A.;Zuzel, G.;Zykova, M. P.;null, null
2025
Abstract
DarkSide-20k is a novel liquid argon dark mat-
ter detector currently under construction at the Laboratori
Nazionali del Gran Sasso (LNGS) of the Istituto Nazionale
di Fisica Nucleare (INFN) that will push the sensitivity
for Weakly Interacting Massive Particle (WIMP) detec-
tion into the neutrino fog. The core of the apparatus is
a dual-phase Time Projection Chamber (TPC), filled with
50 tonnes of low radioactivity underground argon (UAr) act-
ing as the WIMP target. NUV-HD-cryo Silicon Photomulti-
pliers (SiPM)s designed by Fondazione Bruno Kessler (FBK)
(Trento, Italy) were selected as the photon sensors cover-
ing two 10.5 m2 Optical Planes, one at each end of the
TPC, and a total of 5 m2 photosensitive surface for the liq-
uid argon veto detectors. This paper describes the Quality
Assurance and Quality Control (QA/QC) plan and proce-
dures accompanying the production of FBK NUV-HD-cryo
SiPM wafers manufactured by LFoundry s.r.l. (Avezzano,
AQ, Italy). SiPM characteristics are measured at 77 K at
the wafer level with a custom-designed probe station. As of
March 2025, 1314 of the 1400 production wafers (94% of
the total) for DarkSide-20k were tested. The wafer yield is
93.2 ± 2.5%, which exceeds the 80% specification defined
in the original DarkSide-20k production plan.
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2023-2025 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.