Double-peak distribution of electron and ion emission profile during femtosecond laser ablation of metals / Amoruso, S., Wang, X., Altucci, C., DE LISIO, C., Armenante, M., Bruzzese, R., Spinelli, N., Velotta, R.. - In: APPLIED SURFACE SCIENCE. - ISSN 0169-4332. - ELETTRONICO. - 186:(2002), pp. 358-363. [10.1016/S0169-4332(01)00679-1]
Double-peak distribution of electron and ion emission profile during femtosecond laser ablation of metals
AMORUSO, SALVATORE;ALTUCCI, CARLO;DE LISIO, CORRADO;BRUZZESE, RICCARDO;SPINELLI, NICOLA;VELOTTA, RAFFAELE
2002
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