Study on the microstructural and overall disorder in hydrogenated amorphous silicon carbon films / Ambrosone, Giuseppina; D. K., Basa; Coscia, Ubaldo; M., Fathallah. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - STAMPA. - 104:(2008), pp. 123520-1-123520-4. [10.1063/1.3042242]
Study on the microstructural and overall disorder in hydrogenated amorphous silicon carbon films
AMBROSONE, GIUSEPPINA;COSCIA, UBALDO;
2008
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